陸媒渲染光刻機重大突破?業界專家駁斥

2025-07-22 | 來源: 新唐人 | 轉到微信 | 有0人參與評論 | 字體: 放大縮小 | 收藏 | 打印

美中科技戰持續，近期中共媒體不停渲染半導體設備–光刻機，有所謂“重大突破”，但曾經擔任紫光前台籍幹部的業內專家薛宗智接受采訪指出，中國業界盛行謊言，直指光刻機良率品質，要追上ASML，少說還要20年。

美中科技角力下，各國管制光刻機出口中國，近期陸媒卻高調宣傳，成功制作出13.5奈米的極紫外光技術，宣揚“國產EUV光刻機重大突破”，但業內人士，直接反駁。

新創公司創辦人薛宗智：“全世界只有艾斯摩爾做得出來，原因很簡單，就是這個專業在人家手上，EUV是所有設備裡面，因為它只用在3奈米5奈米，太難了。它要做到荷蘭ASML（的程度）至少還要再20年。”

曾任台積電采購經理、前中國紫光集團高階主管的的薛宗智指出，EUV光刻機，涉及復雜光學原理、數萬種模組模型，現行僅荷蘭ASML，掌握了關鍵數據，並與台積電、英特爾的大廠合作不斷優化制程，換言之，中企的“重大突破”多數是假大空。

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薛宗智：“那你想想看我們這些客人，會去買你中國的EUV嗎？答案是不會。它（中企）即便是去應征了，這個美商應材離職的高管，那個品質還是不一樣。”

陸企中芯國際宣稱制程達7奈米，微博上瘋傳中芯5奈米良率，沖到60%至70%，薛宗智踢爆，中國半導體行業，到處是謊言。

薛宗智：“那當時的7奈米其實都是假的，因為我們知道它怎麼做的，那良率非常差，然後那個壽命非常短。所以你只要看到它會發新聞的都是假的，因為中國（中共）的方式，喜歡敲鑼打鼓，說它有多厲害。所以我每次人來問我說真的假的？我說你只要在新聞上看到都是假的。”

中國紫光集團，2015年曾來台高調要並購台積電，但公司2021破產，薛宗智日前表示，中共體制下的半導體公司，高層貪腐嚴重，盛行浮誇剽竊，金玉其外敗絮其中，他決定離開紫光，自行創立公司，強調完全不做中國市場生意。