韓國: 向中企泄露半導體技術兩名韓國人二審刑期被加重

2026-06-19 | 來源: RFI 華語 | 轉到微信 | 有0人參與評論 | 字體: 放大縮小 | 收藏 | 打印

向中企泄露半導體技術兩名韓國緩刑犯二審刑期被加重 https://t.co/PjXEFMZbHa pic.twitter.com/jV8cghRezg— RFI 華語 - 法國國際廣播電台 (@RFI_Cn) June 19, 2026

一家韓國公司前員工因向中國企業泄露半導體化學機械拋光（CMP）相關技術而被起訴，並被判處監禁。

韓聯社報導指，大田高等法院周五對因違反韓國《工業技術泄露預防和保護法》等罪名被起訴的韓國公司前研究員A某（59歲）判處2年零6個月有期徒刑，與原判相同。兩名同案犯被一同起訴，並被判處比一審更重的刑罰：分別判處1年6個月監禁和2年監禁並處罰金2000萬韓元。

報導指，A某等人被指控在2019年至2020年期間，利用電腦和工作手機登錄公司內網，查閱半導體晶圓拋光工藝等公司機密資料，並通過用個人手機拍攝等方式獲取資料後，將其泄露給一家中國企業，因此被移送法院審理。

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經查明，主犯A某在2018年未能晉升為高管後，於2019年6月與中國一家企業達成協議，共同開展半導體晶圓拋光液（CMP拋光液）制造業務，隨後在繼續為原公司工作的同時，通過即時通訊軟件等方式，負責管理中國境內的拋光液生產設備建設及相關業務。之後，A某招募了一些在其他公司從事研究工作的同伙，並將他們調往中國。

報導指，一審法院判處A某有期徒刑2年零6個月，並指“這是一起嚴重的犯罪行為，使受害企業在技術研發方面投入的大量努力和成本付諸東流，嚴重破壞了相關領域的良好競爭和貿易秩序，對國家產業競爭力產生了不利影響”。兩名同案犯分別被判處2年監禁，緩刑3年；以及1年零6個月監禁，緩刑2年。

據悉，上訴法院駁回了A某的兩項上訴，並接受了檢方的論點，即對同案犯的判刑過輕。上訴法院裁定，“這是一起有預謀、有組織的犯罪，需要對整個半導體行業發出警告，以防止未來發生類似犯罪”，並指“我們不接受被告關於泄露的數據不構成國家核心技術的說法”。