消息稱阿斯麥新一代EUV光刻機已具備量產條件...

2026-02-26 | 來源: IT之家 | 轉到微信 | 有0人參與評論 | 字體: 放大縮小 | 收藏 | 打印

IT之家 2 月 27 日消息，據路透社今日報道，阿斯麥公司（ASML）一位高管透露，該公司新一代芯片制造設備已具備廠商大規模量產使用的條件，這對芯片行業而言是重要的一步。

這家荷蘭企業生產全球唯一商用的極紫外光刻機（EUV），該設備是芯片制造商的核心生產裝備。阿斯麥方面的數據顯示，這款新設備能省去芯片制造流程中數個高成本、高復雜度的工序，助力台積電、英特爾等芯片企業制造性能更強勁、能效更優異的芯片。

阿斯麥耗時數年研發這款高成本的新一代設備，與此同時，芯片制造商們也一直在評估，何時啟動該設備的量產才具備經濟可行性。

當前一代極紫外光刻機在制造復雜人工智能芯片方面的能力已接近技術極限，而這款名為 High-NA EUV（高數值孔徑極紫外光刻機）的新一代設備，成為人工智能行業的關鍵所在 —— 它將助力優化 OpenAI 的 ChatGPT 等聊天機器人，同時幫助芯片企業如期推進人工智能芯片研發路線圖，以滿足市場激增的需求。這款新設備的單台成本約為 4 億美元（IT之家注：現匯率約合 27.41 億元人民幣(专题)），是初代極紫外光刻機的兩倍。

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阿斯麥首席技術官馬爾科?皮特斯稱，阿斯麥的相關數據顯示，目前高數值孔徑極紫外光刻機的停機時間已大幅減少，累計加工完成 50 萬片餐盤大小的硅晶圓，且能夠刻制出芯片電路所需的高精度圖案。這三項數據共同表明，該設備已具備交付廠商量產使用的條件。

盡管設備已實現技術就緒，但芯片企業仍需耗時 2 至 3 年開展充分的測試與研發，才能將其整合至量產流程中。皮特斯認為從設備的試產驗證周期來看，目前已到關鍵節點。皮特斯表示：“芯片制造商已掌握相關技術，具備完成該設備量產認證的能力。”

他還透露，目前該款設備的稼動率已達到約 80%，公司計劃在今年年底前將這一指標提升至 90%。該設備完成的 50 萬片晶圓加工工作，讓公司解決了設備運行中的諸多技術難題。